成果名称:结合二次差值扩展与插值扩展的可逆图像水印算法
发 明 人:张正伟
获批时间:2021/12/17
成果类型:发明授权
专 利 号:CN201911304477.8
成果简介:
本发明涉及图像处理技术领域,公开了一种结合二次差值扩展与插值扩展的可逆图像水印算法,包括水印嵌入与水印提取两部分,水印嵌入:去除像素值为0或255的像素点并结合插值扩展与二次广义差值扩展对图像进行水印嵌入;水印提取:去除像素值为0或255的像素点并结合插值扩展与二次逆广义差值扩展对图像进行水印提取。与现有技术相比,本发明利用二次广义差值扩展和插值扩展算法来完成水印嵌入,无需考虑溢出定位图占用有效空间的困扰,提高了嵌入容量,整体性能高,不可见性好,而且有较高的视觉质量,能实现原始图像的完全恢复。
联系人:陈帅
电话:0517-83591025
联系地址:江苏省淮安市枚乘东路1号
邮编:223003
电子邮箱:11000080@hyit.edu.cn