成果名称：一种可见光双向吸收体结构

发 明 人：周雷;高本领;朱雨富;范媛媛;林毅;张俊

获批时间：2018/03/02

成果类型：发明授权

专 利 号：CN201510915402.9

成果简介

本发明公开了一种本发明公开了一种可见光双向吸收体结构。该吸收体结构制备步骤如下：(1)利用纳米加工技术在基底材料上制备二维纳米阵列单元，纳米结构单元周期为100‑200 nm，纳米结构单元底部宽度与周期的比值小于0.4，纳米结构单元的高度与单元底部宽度的比值大于1.5；(2)在二维纳米结构单元上蒸镀或溅射一层厚度为5‑20nm的金属层；(3)在上述金属层上蒸镀或溅射一层厚度为5‑20 nm的介质层。本发明实现了可见光的双向近完美吸收，具有结构简单、材料消耗少、广角的特性，在光电探测器、及隐身伪装等领域具有广泛的应用前景。

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