成果名称：一种优化载流子传导层电荷分离效率的方法

发 明 人：云山;郭探;洪坤;陈静;李彦兴;李华举

获批时间：2020/10/27

成果类型：发明授权

专 利 号：CN201910612490.3

成果简介

本发明公开了一种优化载流子传导层电荷分离效率的方法，包括以下步骤：S1.用清洗剂超声清洗基材，清洗后干燥得透明导电衬底；S2.将S1中透明导电衬底送入沉积室中，通入比例为1:6的氧气与氩气，控制总压强为1Pa，靶材与透明导电衬底的距离为8cm，沉积载流子传输层，沉积时间15min；沉积完成之后将样品托盘送入刻蚀室，将采用直流等离子刻蚀透明导电衬底。与现有技术相比，工艺方面更加简单，同时能够与磁控溅射结合连续制备，不需要增加过多的成本，经济上可行；性能方面，界面处面积增加即可以提供更多的载流子分离与传输通道，抑制界面处的电子‑空穴对复合，从而提升样品的光电化学性能。

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